レジスト組成物、およびレジストパターン形成方法[ja]

被引：0

申请号：

JP20240057451

申请日：

2024-03-29

公开(公告)号：

JP2025154447A

公开(公告)日：

2025-10-10

发明(设计)人：

申请人：

申请人地址：

IPC主分类号：

G03F7/004

IPC分类号：

C08F12/24 G03F7/038 G03F7/039 G03F7/20

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共 50 条

[1]

レジスト組成物、レジストパターン形成方法および塩[ja] [P].

ARAI MASATOSHI ;

INARI TAKATOSHI ;

UCHIDA EMI ;

SAKATA MAKOTO .

日本专利 :JP2024017219A ,2024-02-08

[2]

レジスト基材、レジスト組成物及びレジストパターン形成方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2016158458A1 ,2017-04-27

[3]

レジスト材料、レジスト組成物及びレジストパターン形成方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2015170734A1 ,2017-04-20

[4]

レジスト材料、レジスト組成物及びレジストパターン形成方法[ja] [P].

日本专利 :JP5861955B1 ,2016-02-16

[5]

レジスト組成物及びレジストパターン形成方法[ja] [P].

日本专利 :JP2025177899A ,2025-12-05

[6]

レジスト組成物及びレジストパターン形成方法[ja] [P].

日本专利 :JP7058711B1 ,2022-04-22

[7]

ホトレジスト組成物およびレジストパターンの形成方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2004077158A1 ,2006-06-08

[8]

レジスト組成物及びレジストパターン形成方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2020054449A1 ,2021-08-30

[9]

レジスト組成物及びレジストパターン形成方法[ja] [P].

日本专利 :JP2025178097A ,2025-12-05

[10]

レジスト組成物及びレジストパターン形成方法[ja] [P].

FUJII TATSUYA ;

MURATA MARI ;

INABA YUSHI .

日本专利 :JP2024049510A ,2024-04-10

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