化合物及び酸拡散制御剤[ja]

被引：0

申请号：

JP20240068425

申请日：

2024-04-19

公开(公告)号：

JP7759992B2

公开(公告)日：

2025-10-24

发明(设计)人：

申请人：

申请人地址：

IPC主分类号：

C07D317/50

IPC分类号：

C07C381/12 C07D311/24 C07D311/66 C07D319/20 C07D327/06 C07D333/70 C07D333/76

代理机构：

代理人：

法律状态：

国省代码：

引用

下载

收藏

法律状态

法律状态公告日

法律状态

法律状态信息

共 50 条

[1]

酸拡散制御剤及び化合物[ja] [P].

日本专利 :JP6882703B2 ,2021-06-02

[2]

化合物及び酸発生剤[ja] [P].

日本专利 :JP2022153472A ,2022-10-12

[3]

化合物及び酸発生剤[ja] [P].

日本专利 :JP7366202B2 ,2023-10-20

[4]

レジスト組成物、レジストパターン形成方法、化合物、酸発生剤、及び酸拡散制御剤[ja] [P].

ONISHI KOSHI ;

FUJINO AKINARI .

日本专利 :JP2025048682A ,2025-04-03

[5]

レジスト組成物、レジストパターン形成方法、化合物、酸発生剤、及び酸拡散制御剤[ja] [P].

日本专利 :JP2025166423A ,2025-11-06

[6]

化合物及び抗菌剤[ja] [P].

日本专利 :JP6994737B2 ,2022-01-14

[7]

レジスト組成物、レジストパターン形成方法、化合物及び酸拡散制御剤[ja] [P].

AKIMOTO YURI ;

KOBAYASHI RYOTA ;

KATO HIROKI .

日本专利 :JP2024168058A ,2024-12-05

[8]

レジスト組成物、レジストパターン形成方法、化合物及び酸拡散制御剤[ja] [P].

KATO HIROKI .

日本专利 :JP2024079160A ,2024-06-11

[9]

レジスト組成物、レジストパターン形成方法、化合物、及び酸拡散制御剤[ja] [P].

日本专利 :JP2025158783A ,2025-10-17

[10]

レジスト組成物、レジストパターン形成方法、化合物、及び酸拡散制御剤[ja] [P].

FUJINAMI TETSURO .

日本专利 :JP2025034991A ,2025-03-13

← 1 2 3 4 5 →