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一种提高加工稳定性的磁流变抛光机
被引:0
专利类型
:
实用新型
申请号
:
CN202422474735.X
申请日
:
2024-10-14
公开(公告)号
:
CN223441972U
公开(公告)日
:
2025-10-17
发明(设计)人
:
请求不公布姓名
请求不公布姓名
请求不公布姓名
请求不公布姓名
请求不公布姓名
请求不公布姓名
请求不公布姓名
请求不公布姓名
申请人
:
长沙埃福思科技有限公司
申请人地址
:
410000 湖南省长沙市开福区青竹湖街道青竹湖路118号金卓产业园7号小型仪表装配厂房101一楼
IPC主分类号
:
B24B29/00
IPC分类号
:
B24B41/02
B24B41/04
B24B41/06
B24B47/22
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
授权
国省代码
:
湖南省 长沙市
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2025-10-17
授权
授权
共 50 条
[1]
一种稳定性强的抛光机
[P].
谷雪娇
论文数:
0
引用数:
0
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0
谷雪娇
;
牛何林
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牛何林
;
赵海娟
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赵海娟
;
杨壮
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杨壮
.
中国专利
:CN216707071U
,2022-06-10
[2]
一种高稳定性抛光机
[P].
童振雄
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童振雄
;
潘正达
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潘正达
.
中国专利
:CN210452217U
,2020-05-05
[3]
一种磁流变抛光机
[P].
黄贺
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机构:
季华实验室
季华实验室
黄贺
;
张瀛怀
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机构:
季华实验室
季华实验室
张瀛怀
;
张斌智
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机构:
季华实验室
季华实验室
张斌智
;
冯畅
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机构:
季华实验室
季华实验室
冯畅
;
丘敏艳
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机构:
季华实验室
季华实验室
丘敏艳
;
叶铭堃
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机构:
季华实验室
季华实验室
叶铭堃
;
张健
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机构:
季华实验室
季华实验室
张健
;
梁棋翔
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机构:
季华实验室
季华实验室
梁棋翔
.
中国专利
:CN119260484A
,2025-01-07
[4]
提高加工稳定性的新型铣刀
[P].
冯聪慧
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冯聪慧
;
张明阳
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张明阳
;
郭强
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郭强
;
童景琳
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童景琳
;
许东辉
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许东辉
;
姜燕
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姜燕
.
中国专利
:CN210280815U
,2020-04-10
[5]
一种稳定性好的抛光机
[P].
张子合
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0
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0
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0
张子合
.
中国专利
:CN214817708U
,2021-11-23
[6]
一种传送带式磁流变抛光机
[P].
论文数:
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机构:
曹建国
;
李昊辰
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机构:
北京信息科技大学
北京信息科技大学
李昊辰
.
中国专利
:CN222741141U
,2025-04-11
[7]
一种提高挤压稳定性的研磨抛光机
[P].
李勇
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0
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李勇
.
中国专利
:CN107350941A
,2017-11-17
[8]
一种平面磁流变抛光机
[P].
陈丙三
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陈丙三
;
黄迪程
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黄迪程
;
郑城
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郑城
;
黄卫东
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0
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0
黄卫东
.
中国专利
:CN210757078U
,2020-06-16
[9]
一种平面磁流变抛光机
[P].
肖志宏
论文数:
0
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0
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0
肖志宏
.
中国专利
:CN214922820U
,2021-11-30
[10]
一种带坐标检测功能的数控磁流变抛光机
[P].
不公告发明人
论文数:
0
引用数:
0
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0
不公告发明人
.
中国专利
:CN213615621U
,2021-07-06
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