光酸発生剤、硬化性組成物及びレジスト組成物[ja]

被引：0

申请号：

JP20250123012

申请日：

2025-07-23

公开(公告)号：

JP2025158986A

公开(公告)日：

2025-10-17

发明(设计)人：

申请人：

申请人地址：

IPC主分类号：

G03F7/004

IPC分类号：

C07C381/12 C07D335/16 C09K3/00 G03F7/038 G03F7/039 G03F7/20

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共 50 条

[1]

光酸発生剤、硬化性組成物及びレジスト組成物[ja] [P].

日本专利 :JP2025156386A ,2025-10-14

[2]

光酸発生剤、硬化性組成物及びレジスト組成物[ja] [P].

日本专利 :JP2025146863A ,2025-10-03

[3]

光酸発生剤、硬化性組成物及びレジスト組成物[ja] [P].

日本专利 :JP2025163073A ,2025-10-28

[4]

スルホニウム塩、光酸発生剤、硬化性組成物およびレジスト組成物[ja] [P].

日本专利 :JPWO2019225185A1 ,2021-06-24

[5]

スルホニウム塩、光酸発生剤、硬化性組成物およびレジスト組成物[ja] [P].

日本专利 :JPWO2020145043A1 ,2021-11-25

[6]

組成物、硬化性組成物、及び、硬化物[ja] [P].

TANAKA YOSHITO ;

YOSHIYAMA ASAKO ;

KISHIKAWA YOSUKE .

日本专利 :JP2022033902A ,2022-03-02

[7]

光酸発生剤，光硬化性組成物，及びその硬化体[ja] [P].

日本专利 :JPWO2011016425A1 ,2013-01-10

[8]

酸硬化性組成物[ja] [P].

日本专利 :JP2022506386A ,2022-01-17

[9]

酸硬化性組成物[ja] [P].

日本专利 :JP2022509918A ,2022-01-25

[10]

光硬化性組成物[ja] [P].

日本专利 :JPWO2020080309A1 ,2021-09-16

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