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超伝導デバイス、超伝導電磁石、及び超伝導デバイスの製造方法[ja]
被引:0
申请号
:
JP20240048802
申请日
:
2024-03-25
公开(公告)号
:
JP2025148177A
公开(公告)日
:
2025-10-07
发明(设计)人
:
申请人
:
申请人地址
:
IPC主分类号
:
H01B12/06
IPC分类号
:
H01F6/06
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
共 50 条
[1]
超伝導薄膜、その製造方法、およびそれを用いた超伝導線材、超伝導デバイス[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2006025252A1
,2008-05-08
[2]
超伝導体及び超伝導体の形成方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2015532630A
,2015-11-12
[3]
半導体デバイスの製造方法及び半導体デバイス[ja]
[P].
DAVID LYSACEK
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
SEMICONDUCTOR COMPONENTS IND LLC
SEMICONDUCTOR COMPONENTS IND LLC
DAVID LYSACEK
;
JAN HYBL
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
SEMICONDUCTOR COMPONENTS IND LLC
SEMICONDUCTOR COMPONENTS IND LLC
JAN HYBL
;
DUSAN POSTULKA
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
SEMICONDUCTOR COMPONENTS IND LLC
SEMICONDUCTOR COMPONENTS IND LLC
DUSAN POSTULKA
;
JURAJ JARINA
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
SEMICONDUCTOR COMPONENTS IND LLC
SEMICONDUCTOR COMPONENTS IND LLC
JURAJ JARINA
;
VIT JANIREK
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
SEMICONDUCTOR COMPONENTS IND LLC
SEMICONDUCTOR COMPONENTS IND LLC
VIT JANIREK
;
ALEXANDRA SENKOVA
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
SEMICONDUCTOR COMPONENTS IND LLC
SEMICONDUCTOR COMPONENTS IND LLC
ALEXANDRA SENKOVA
.
日本专利
:JP2024031904A
,2024-03-07
[4]
イオン伝導体および蓄電デバイス[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2019212007A1
,2020-05-07
[5]
デバイス基板及び半導体デバイスの製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2018519655A
,2018-07-19
[6]
酸化物超伝導体の超伝導接続構造及びこれを用いた超伝導機器[ja]
[P].
日本专利
:JP7553932B2
,2024-09-19
[7]
酸化物イオン伝導体及び電気化学デバイス[ja]
[P].
日本专利
:JP6992770B2
,2022-02-03
[8]
酸化物イオン伝導体及び電気化学デバイス[ja]
[P].
日本专利
:JP6819638B2
,2021-01-27
[9]
酸化物イオン伝導体及び電気化学デバイス[ja]
[P].
日本专利
:JP7155812B2
,2022-10-19
[10]
プロトン伝導体およびプロトン伝導デバイス[ja]
[P].
日本专利
:JP5720001B1
,2015-05-20
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