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一种高耐候遮光膜及其制备方法
被引：0
专利类型：
发明
申请号：
CN202311510088.7
申请日：
2023-11-14
公开(公告)号：
CN117362955B
公开(公告)日：
2025-10-31
发明(设计)人：
葛会登
李仕军
申请人：
江西省爱成海光学科技有限公司
申请人地址：
341899 江西省赣州市全南县工业园二区产学研用园(9栋2层)
IPC主分类号：
C08L67/02
IPC分类号：
C08J5/18
C08K7/00
C08K9/02
C08K9/04
C08K3/34
C08K3/22
C08K3/04
C08K13/06
代理机构：
赣州智府晟泽知识产权代理事务所(普通合伙) 36128
代理人：
杨金根
法律状态：
公开
国省代码：
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法律状态
| 法律状态公告日 | 法律状态 | 法律状态信息 |
| 2024-01-09 | 公开 | 公开 |
| 2024-01-26 | 实质审查的生效 | 实质审查的生效IPC(主分类):C08L 67/02申请日:20231114 |
| 2025-12-19 | 专利实施许可合同备案的生效、变更及注销 | 专利实施许可合同备案的生效IPC(主分类):C08L 67/02合同备案号:X2025980040310让与人:江西省爱成海光学科技有限公司受让人:江西宏林光学科技有限公司发明名称:一种高耐候遮光膜及其制备方法申请日:20231114申请公布日:20240109授权公告日:20251031许可种类:普通许可备案日期:20251202 |
| 2025-10-31 | 授权 | 授权 |