合成ガスを製造するためのシステム及びプロセス[ja]

被引:0
申请号
JP20250528665
申请日
2023-11-17
公开(公告)号
JP2025536688A
公开(公告)日
2025-11-07
发明(设计)人
申请人
申请人地址
IPC主分类号
C01B3/38
IPC分类号
C01B3/16
代理机构
代理人
法律状态
国省代码
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共 50 条
[1]
[7]
ビスフェノールを製造するプロセス[ja] [P]. 
日本专利 :JP2021536465A ,2021-12-27
[8]
[10]
有機過酸化物を生成するためのプロセス[ja] [P]. 
日本专利 :JP2022522277A ,2022-04-15