一种光学元件超光滑表面加工用抛光液及其制备方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202411393695.4

申请日：

2024-10-08

公开(公告)号：

CN119264817B

公开(公告)日：

2025-10-24

发明(设计)人：

矫灵艳郭伟进

申请人：

天津津航技术物理研究所

申请人地址：

300300 天津市东丽区空港经济区中环西路58号

IPC主分类号：

C09G1/02

IPC分类号：

代理机构：

天津市鼎拓知识产权代理有限公司 12233

代理人：

刘雪娜

法律状态：

授权

国省代码：

天津市

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2025-10-24	授权	授权
2025-01-24	实质审查的生效	实质审查的生效IPC(主分类):C09G 1/02申请日:20241008
2025-01-07	公开	公开

共 50 条

[1]

一种光学元件超光滑表面加工用抛光液及其制备方法 [P].

矫灵艳 ;

郭伟进 .

中国专利 :CN119264817A ,2025-01-07

[2]

一种玻璃加工用抛光液及其制备方法 [P].

顾雪娥 .

中国专利 :CN109096923A ,2018-12-28

[3]

一种具有高稳定去除效率的超光滑磁流变抛光液及制备方法 [P].

王超 ;

彭泽润 ;

白天宇 ;

叶敏恒 ;

李晓媛 .

中国专利 :CN121182379A ,2025-12-23

[4]

一种用于石英玻璃表面超光滑加工的抛光液及其制备方法和应用 [P].

辛强 ;

李威 ;

罗大微 ;

范斌 ;

陈强 .

中国专利 :CN118852992A ,2024-10-29

[5]

一种光学玻璃加工用氧化锆抛光液及其制备方法 [P].

刘书刚 .

中国专利 :CN108059920A ,2018-05-22

[6]

一种光学玻璃加工用氧化锆抛光液及其制备方法 [P].

李妹明 ;

谭立 ;

曾世尊 ;

马杰 ;

杨小祥 .

中国专利 :CN103450815A ,2013-12-18

[7]

一种晶片抛光用抛光液及其制备方法 [P].

李加海 ;

梁则兵 .

中国专利 :CN115386297A ,2022-11-25

[8]

一种晶片抛光用抛光液及其制备方法 [P].

李加海 ;

梁则兵 .

中国专利 :CN115386297B ,2024-04-26

[9]

一种不锈钢表面加工用抛光液 [P].

邹锦阳 ;

李明 ;

储顺庆 .

中国专利 :CN106318220A ,2017-01-11

[10]

一种抛光液及其制备方法 [P].

周群飞 ;

李强 .

中国专利 :CN109251681A ,2019-01-22

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