精製ガスの製造方法[ja]

被引：0

申请号：

JP20240058194

申请日：

2024-03-29

公开(公告)号：

JP2025154914A

公开(公告)日：

2025-10-10

发明(设计)人：

申请人：

申请人地址：

IPC主分类号：

B01D53/22

IPC分类号：

B01D71/02 C01B39/48

代理机构：

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共 50 条

[1]

ＨＤＤ用ガラス基板の製造方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2013099148A1 ,2015-04-30

[2]

炭化物の製造方法、炭化物製造装置、改質ガスの製造方法、改質ガス製造システム、水素の製造方法及び水素製造システム[ja] [P].

ICHIKAWA MASARU ;

FUKUMOTO ATSUSHI ;

KIUCHI TSUTOMU ;

FUJIWARA RYOTA ;

SUZUKI FUMIHIKO .

日本专利 :JP2025111340A ,2025-07-30

[3]

炭酸ガス含有含水ゲル物品の製造方法[ja] [P].

日本专利 :JP6948478B1 ,2021-10-13

[4]

ガス拡散電極の製造方法、膜・電極接合体（ＭＥＡ）の製造方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2016170775A1 ,2018-04-19

[5]

ＣＯ２ガス分離膜及びその製造方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2014073582A1 ,2016-09-08

[6]

スポンジの製造方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2010114097A1 ,2012-10-11

[7]

型の製造方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2007077731A1 ,2009-06-11

[8]

触媒の製造方法[ja] [P].

OKUBO KEIICHI ;

TSUCHIYA KIMIHIRO .

日本专利 :JP2024016324A ,2024-02-07

[9]

ガスバリアフィルムの製造方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2019031262A1 ,2020-07-02

[10]

ガスバリアフィルムの製造方法[ja] [P].

日本专利 :JP2023053966A ,2023-04-13

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