填充剂用基材、填充剂用基材的制造方法、填充剂及蛋白质的制造方法

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专利类型
发明
申请号
CN202580002226.1
申请日
2025-02-05
公开(公告)号
CN121001816A
公开(公告)日
2025-11-21
发明(设计)人
渡边优 中西弘嗣
申请人
株式会社力森诺科
申请人地址
日本
IPC主分类号
B01J20/285
IPC分类号
B01J20/281 G01N30/88
代理机构
北京市中咨律师事务所 11247
代理人
马妮楠;段承恩
法律状态
公开
国省代码
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共 50 条
[1]
填充剂的制造方法、填充剂及柱体 [P]. 
广江宜久 .
中国专利 :CN102348974A ,2012-02-08
[2]
填充剂及填充剂的制备方法 [P]. 
南中赫 ;
崔斗烈 ;
金敏秀 .
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[3]
填充剂及其制造方法以及尺寸排阻色谱用柱 [P]. 
内山直树 ;
小木户谦 .
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[4]
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村角公一 .
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[5]
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[6]
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李汉松 ;
郭泽秀 ;
金古恩 ;
金补宣 ;
金相均 ;
罗隆熙 ;
朴银秀 ;
徐珍雨 ;
宋炫知 ;
林相学 ;
任浣熙 ;
洪承希 ;
黄丙奎 .
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[7]
亲和色谱用填充剂 [P]. 
田守功二 ;
安陪毅由 ;
冈野友亮 ;
籾山昌辉 ;
川井洋 ;
日向寺慧 ;
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[8]
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大月纯一 ;
北广敬 ;
冈田浩一 ;
大原康次郎 .
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[9]
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与谷卓也 ;
高原诚 .
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[10]
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丸田秀平 .
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