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电解质分析装置
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN202180045584.2
申请日
:
2021-03-11
公开(公告)号
:
CN115769081B
公开(公告)日
:
2025-11-18
发明(设计)人
:
宫川拓士
渡边凉太
岩濑友一
熊谷孝宏
三宅雅文
申请人
:
株式会社日立高新技术
申请人地址
:
日本东京都
IPC主分类号
:
G01N35/02
IPC分类号
:
G01N27/416
代理机构
:
中科专利商标代理有限责任公司 11021
代理人
:
吴秋明
法律状态
:
授权
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2025-11-18
授权
授权
共 50 条
[1]
电解质分析装置
[P].
H·R·拉赫曼
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H·R·拉赫曼
;
三宅雅文
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三宅雅文
.
中国专利
:CN115053126A
,2022-09-13
[2]
电解质分析装置
[P].
H·R·拉赫曼
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机构:
株式会社日立高新技术
株式会社日立高新技术
H·R·拉赫曼
;
三宅雅文
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机构:
株式会社日立高新技术
株式会社日立高新技术
三宅雅文
.
日本专利
:CN115053126B
,2024-07-23
[3]
电解质分析装置
[P].
熊谷孝宏
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机构:
株式会社日立高新技术
株式会社日立高新技术
熊谷孝宏
;
宫川拓士
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机构:
株式会社日立高新技术
株式会社日立高新技术
宫川拓士
;
岩濑友一
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机构:
株式会社日立高新技术
株式会社日立高新技术
岩濑友一
;
山本遇哲
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机构:
株式会社日立高新技术
株式会社日立高新技术
山本遇哲
;
川原铁士
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机构:
株式会社日立高新技术
株式会社日立高新技术
川原铁士
.
日本专利
:CN115004020B
,2024-08-27
[4]
电解质分析装置
[P].
宫川拓士
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机构:
株式会社日立高新技术
株式会社日立高新技术
宫川拓士
;
原正辉
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机构:
株式会社日立高新技术
株式会社日立高新技术
原正辉
;
川原铁士
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机构:
株式会社日立高新技术
株式会社日立高新技术
川原铁士
.
日本专利
:CN111954820B
,2024-08-20
[5]
电解质分析装置
[P].
原正辉
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机构:
株式会社日立高新技术
株式会社日立高新技术
原正辉
;
宫川拓士
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机构:
株式会社日立高新技术
株式会社日立高新技术
宫川拓士
;
川原铁士
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机构:
株式会社日立高新技术
株式会社日立高新技术
川原铁士
.
日本专利
:CN112654872B
,2024-07-02
[6]
电解质分析装置
[P].
宫川拓士
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机构:
株式会社日立高新技术
株式会社日立高新技术
宫川拓士
;
原正辉
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机构:
株式会社日立高新技术
株式会社日立高新技术
原正辉
;
矶部夏美
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机构:
株式会社日立高新技术
株式会社日立高新技术
矶部夏美
;
川原铁士
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机构:
株式会社日立高新技术
株式会社日立高新技术
川原铁士
.
日本专利
:CN111954821B
,2024-08-20
[7]
电解质分析装置
[P].
孟祥平
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孟祥平
.
中国专利
:CN207215749U
,2018-04-10
[8]
电解质分析装置
[P].
原正辉
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原正辉
;
宫川拓士
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宫川拓士
;
川原铁士
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川原铁士
.
中国专利
:CN112654872A
,2021-04-13
[9]
电解质分析装置
[P].
宫川拓士
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宫川拓士
;
原正辉
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原正辉
;
川原铁士
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川原铁士
.
中国专利
:CN111954820A
,2020-11-17
[10]
电解质分析装置
[P].
岩濑友一
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岩濑友一
;
宫川拓士
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宫川拓士
;
熊谷孝宏
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熊谷孝宏
;
山本遇哲
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山本遇哲
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川原铁士
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川原铁士
.
中国专利
:CN114930173A
,2022-08-19
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