深度传感器装置和用于操作深度传感器装置的方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202480018241.0

申请日：

2024-03-05

公开(公告)号：

CN120858266A

公开(公告)日：

2025-10-28

发明(设计)人：

阿斯特丽德·珀蒂让塞谬尔·布吕纳

申请人：

索尼半导体解决方案公司

申请人地址：

日本神奈川

IPC主分类号：

G01B11/25

IPC分类号：

代理机构：

北京康信知识产权代理有限责任公司 11240

代理人：

刘瑞贤

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2025-10-28	公开	公开
2025-11-14	实质审查的生效	实质审查的生效IPC(主分类):G01B 11/25申请日:20240305

共 50 条

[1]

深度传感器设备和用于操作深度传感器设备的方法 [P].

塞谬尔·布吕纳 ;

阿斯特丽德·珀蒂让 .

日本专利 :CN118671785A ,2024-09-20

[2]

深度传感器设备和用于操作深度传感器设备的方法 [P].

马克·奥斯瓦尔德 .

日本专利 :CN118435023A ,2024-08-02

[3]

传感器装置和用于操作传感器装置的方法 [P].

迪德里克·保罗·莫伊斯 .

日本专利 :CN117643068A ,2024-03-01

[4]

深度传感器 [P].

李承炫 ;

金永灿 ;

陈暎究 ;

吴暎宣 .

韩国专利 :CN117913109A ,2024-04-19

[5]

传感器装置和用于操作传感器装置的方法 [P].

克里斯蒂安·彼得·布伦德利 ;

安德烈亚斯·奥米勒 ;

迈克尔·加斯纳 ;

城坚诚 .

日本专利 :CN120615302A ,2025-09-09

[6]

传感器装置和用于操作传感器装置的方法 [P].

桥本和幸 .

中国专利 :CN112504304A ,2021-03-16

[7]

深度传感器 [P].

牛泽楠 ;

李惠 ;

贾文静 .

中国专利 :CN204754914U ,2015-11-11

[8]

深度传感器 [P].

柴田拓二 ;

渡边隆 .

中国专利 :CN1149125A ,1997-05-07

[9]

深度传感器 [P].

韩知希 .

韩国专利 :CN120370326A ,2025-07-25

[10]

深度传感器 [P].

伊恩·N·罗宾逊 ;

约翰·阿波斯托洛普洛斯 .

中国专利 :CN105164610A ,2015-12-16

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