一种高效率等离子清洗设备

被引：0

专利类型：

实用新型

申请号：

CN202422761495.1

申请日：

2024-11-13

公开(公告)号：

CN223505795U

公开(公告)日：

2025-11-04

发明(设计)人：

熊忠来樊尧苟福强

申请人：

苏州伊赛仑特电子科技有限公司

申请人地址：

215000 江苏省苏州市工业园区港田路99号港田工业坊17号厂房一楼局部厂区

IPC主分类号：

B08B7/00

IPC分类号：

B08B13/00

代理机构：

苏州华博知识产权代理有限公司 32232

代理人：

彭益波

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2025-11-04	授权	授权

共 50 条

[1]

高效率半导体芯片等离子清洗设备 [P].

樊尧 ;

韩海洋 ;

熊忠来 ;

苟福强 .

中国专利 :CN223733444U ,2025-12-30

[2]

高效率半导体芯片等离子清洗设备 [P].

万华亿 ;

韦太球 .

中国专利 :CN217857785U ,2022-11-22

[3]

一种等离子清洗设备 [P].

廖渊琳 ;

苗润财 ;

苗润发 ;

苗伟伟 ;

赵岩 ;

王健 .

中国专利 :CN214184399U ,2021-09-14

[4]

一种高效率的等离子净化设备 [P].

温国文 .

中国专利 :CN214437261U ,2021-10-22

[5]

一种高效率等离子断料机 [P].

王建芳 ;

谢天凯 ;

何涛 ;

田伟 ;

苟洋 ;

罗盛益 ;

王磊 ;

洪俊雄 .

中国专利 :CN211028517U ,2020-07-17

[6]

一种高效率低温等离子发生器 [P].

钱黎明 ;

冮殿亮 ;

倪国华 ;

王守国 ;

马金强 ;

刘大雪 ;

陆晓飞 ;

何亚静 ;

贺名 ;

匡亮亮 .

中国专利 :CN206585823U ,2017-10-24

[7]

一种高效率清洗设备 [P].

金仙惠 .

中国专利 :CN202860878U ,2013-04-10

[8]

一种高效率的等离子切割设备除尘装置 [P].

吕增智 ;

程敏 .

中国专利 :CN207254016U ,2018-04-20

[9]

一种等离子刻蚀机高效率装置 [P].

郑先磊 ;

李智勇 .

中国专利 :CN207719137U ,2018-08-10

[10]

一种等离子清洗装置 [P].

王义林 ;

陈晨 .

中国专利 :CN217121124U ,2022-08-05

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