还原装置、还原方法以及还原物的制造方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202480023404.4

申请日：

2024-04-11

公开(公告)号：

CN120981281A

公开(公告)日：

2025-11-18

发明(设计)人：

吉川太朗加贺彬间彦智明浅川雅德田规夫山崎聪松本翼市川公善

申请人：

株式会社大赛璐国立大学法人金沢大学

申请人地址：

日本大阪府

IPC主分类号：

B01J19/12

IPC分类号：

B01J21/18 B01J35/39 C01B3/04 C01B32/40

代理机构：

北京市柳沈律师事务所 11105

代理人：

杨薇

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2025-12-05	实质审查的生效	实质审查的生效IPC(主分类):B01J 19/12申请日:20240411
2025-11-18	公开	公开

共 50 条

[1]

半导体催化剂、催化剂电极、还原物的制造方法、还原物生成装置 [P].

德田规夫 ;

浅川雅 ;

市川公善 ;

山崎聪 ;

松本翼 ;

吉川太朗 ;

加贺彬 ;

间彦智明 .

日本专利 :CN120981286A ,2025-11-18

[2]

还原催化剂以及使用了还原催化剂的化学反应装置、还原方法和还原物生产系统 [P].

田村淳 ;

御子柴智 ;

工藤由纪 ;

小野昭彦 ;

北川良太 ;

山际正和 ;

菅野义经 .

中国专利 :CN108339570A ,2018-07-31

[3]

连续催化加氢还原制备DCB还原物的方法 [P].

王晓辉 ;

赵伟 ;

仇文仲 ;

赵磊 ;

苏天伟 .

中国专利 :CN111116407B ,2020-05-08

[4]

还原装置 [P].

矢部孝 .

中国专利 :CN103974763A ,2014-08-06

[5]

目标分子的还原方法、还原装置及电极 [P].

和山文哉 ;

辻清孝 ;

初谷纪幸 .

日本专利 :CN119403959A ,2025-02-07

[6]

熔融还原炼铁的终还原装置及其方法 [P].

刘浏 ;

佟溥翘 ;

吴启常 ;

常立 ;

丁勇良 ;

曾加庆 ;

高建军 ;

米谷明 ;

布焕存 ;

王忠奎 ;

王新华 ;

李嘉年 ;

高峰 ;

吕永前 ;

吴铿 ;

崔淑贤 ;

张建良 ;

肖兴国 .

中国专利 :CN1248634A ,2000-03-29

[7]

氢化还原装置 [P].

刘留 ;

曾小东 ;

郭金伯 ;

陈昭龙 ;

周声万 .

中国专利 :CN109680165A ,2019-04-26

[8]

水雾还原装置 [P].

何鲁敏 .

中国专利 :CN201081359Y ,2008-07-02

[9]

色彩还原装置 [P].

潘展 .

中国专利 :CN207617305U ,2018-07-17

[10]

臭氧还原装置 [P].

曾信华 ;

林侑融 .

中国专利 :CN223393173U ,2025-09-30

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