一种真空等离子设备

被引：0

专利类型：

实用新型

申请号：

CN202422969447.1

申请日：

2024-12-03

公开(公告)号：

CN223603037U

公开(公告)日：

2025-11-28

发明(设计)人：

郭峰王宇张瑞

申请人：

昆山普乐斯电子科技有限公司

申请人地址：

215300 江苏省苏州市昆山市巴城镇东盛路298号3号厂房一楼

IPC主分类号：

B08B7/00

IPC分类号：

B08B13/00

代理机构：

江苏久宣知识产权代理事务所(普通合伙) 32739

代理人：

沈维建

法律状态：

授权

国省代码：

江苏省苏州市

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2025-11-28	授权	授权

共 50 条

[1]

真空等离子设备 [P].

董海青 ;

申鹏 .

中国专利 :CN211726804U ,2020-10-23

[2]

一种真空等离子清洗设备 [P].

陈代国 .

中国专利 :CN214767505U ,2021-11-19

[3]

一种真空等离子清洗设备 [P].

刘善石 .

中国专利 :CN216773171U ,2022-06-17

[4]

一种真空等离子清洗设备 [P].

邹军 .

中国专利 :CN210966192U ,2020-07-10

[5]

一种真空等离子清洗设备 [P].

冀然 ;

李晓飞 .

中国专利 :CN117102161B ,2024-01-12

[6]

一种真空等离子设备腔体 [P].

张斌 .

中国专利 :CN207624656U ,2018-07-17

[7]

一种真空等离子专用合页 [P].

李志强 .

中国专利 :CN209277734U ,2019-08-20

[8]

产品内管真空等离子清洗设备 [P].

牛峰 ;

郑维杰 .

中国专利 :CN221559227U ,2024-08-20

[9]

电极结构和真空等离子设备 [P].

孙溯 ;

张志强 ;

谢小兵 .

中国专利 :CN207425792U ,2018-05-29

[10]

真空等离子刻蚀反应腔体设备 [P].

孙希 .

中国专利 :CN203085485U ,2013-07-24

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