一种化学气相沉积设备

被引:0
专利类型
实用新型
申请号
CN202520257476.7
申请日
2025-02-18
公开(公告)号
CN223705816U
公开(公告)日
2025-12-23
发明(设计)人
崔名扬 任丽 贾莹莹 付亮
申请人
河南天璇半导体科技有限责任公司
申请人地址
450000 河南省郑州市河南自贸试验区郑州片区(郑东)龙湖中环路与龙源西四街交叉口启迪郑东科技城产促中心2楼226号
IPC主分类号
C30B25/00
IPC分类号
C30B29/04 C23C16/455 C23C16/511 C23C16/27
代理机构
郑州睿信知识产权代理有限公司 41119
代理人
王露娟
法律状态
授权
国省代码
广东省 汕头市
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共 50 条
[1]
一种化学气相沉积喷头及化学气相沉积设备 [P]. 
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中国专利 :CN223674737U ,2025-12-16
[2]
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化学气相沉积设备 [P]. 
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[5]
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一种化学气相沉积设备 [P]. 
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王俊 ;
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[7]
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[8]
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[10]
化学气相沉积设备 [P]. 
周向阳 .
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