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一种化学气相沉积设备
被引:0
专利类型
:
实用新型
申请号
:
CN202520257476.7
申请日
:
2025-02-18
公开(公告)号
:
CN223705816U
公开(公告)日
:
2025-12-23
发明(设计)人
:
崔名扬
任丽
贾莹莹
付亮
申请人
:
河南天璇半导体科技有限责任公司
申请人地址
:
450000 河南省郑州市河南自贸试验区郑州片区(郑东)龙湖中环路与龙源西四街交叉口启迪郑东科技城产促中心2楼226号
IPC主分类号
:
C30B25/00
IPC分类号
:
C30B29/04
C23C16/455
C23C16/511
C23C16/27
代理机构
:
郑州睿信知识产权代理有限公司 41119
代理人
:
王露娟
法律状态
:
授权
国省代码
:
广东省 汕头市
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2025-12-23
授权
授权
共 50 条
[1]
一种化学气相沉积喷头及化学气相沉积设备
[P].
方鹏
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
湖北星辰技术有限公司
湖北星辰技术有限公司
方鹏
.
中国专利
:CN223674737U
,2025-12-16
[2]
一种化学气相沉积设备
[P].
陈飞
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0
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0
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机构:
东莞市三体精密工具有限公司
东莞市三体精密工具有限公司
陈飞
;
张杰
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0
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机构:
东莞市三体精密工具有限公司
东莞市三体精密工具有限公司
张杰
;
张奇
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0
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0
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0
机构:
东莞市三体精密工具有限公司
东莞市三体精密工具有限公司
张奇
.
中国专利
:CN223646630U
,2025-12-09
[3]
化学气相沉积设备
[P].
李景伦
论文数:
0
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0
李景伦
.
中国专利
:CN201530864U
,2010-07-21
[4]
一种化学气相沉积设备
[P].
李涛
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李涛
;
王俊
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王俊
;
刘书凯
论文数:
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刘书凯
.
中国专利
:CN114574836A
,2022-06-03
[5]
一种化学气相沉积设备
[P].
蒋新和
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蒋新和
;
叶致峰
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叶致峰
.
中国专利
:CN218089789U
,2022-12-20
[6]
一种化学气相沉积设备
[P].
李涛
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机构:
李涛
李涛
李涛
;
王俊
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机构:
李涛
李涛
王俊
;
刘书凯
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机构:
李涛
李涛
刘书凯
.
中国专利
:CN114574836B
,2025-03-28
[7]
一种化学气相沉积设备用进气机构
[P].
黄波
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机构:
上海尼侃真空技术有限公司
上海尼侃真空技术有限公司
黄波
;
丁正和
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机构:
上海尼侃真空技术有限公司
上海尼侃真空技术有限公司
丁正和
;
陈华顺
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机构:
上海尼侃真空技术有限公司
上海尼侃真空技术有限公司
陈华顺
;
刘东来
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机构:
上海尼侃真空技术有限公司
上海尼侃真空技术有限公司
刘东来
;
何军
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机构:
上海尼侃真空技术有限公司
上海尼侃真空技术有限公司
何军
;
张建耀
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机构:
上海尼侃真空技术有限公司
上海尼侃真空技术有限公司
张建耀
.
中国专利
:CN221608189U
,2024-08-27
[8]
承载装置及化学气相沉积设备
[P].
王骏
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机构:
深圳市金洲精工科技股份有限公司
深圳市金洲精工科技股份有限公司
王骏
;
张贺勇
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机构:
深圳市金洲精工科技股份有限公司
深圳市金洲精工科技股份有限公司
张贺勇
.
中国专利
:CN222226550U
,2024-12-24
[9]
化学气相沉积设备
[P].
周向阳
论文数:
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机构:
乐金显示光电科技(中国)有限公司
乐金显示光电科技(中国)有限公司
周向阳
.
中国专利
:CN223373222U
,2025-09-23
[10]
化学气相沉积设备
[P].
周向阳
论文数:
0
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机构:
乐金显示光电科技(中国)有限公司
乐金显示光电科技(中国)有限公司
周向阳
.
中国专利
:CN223268760U
,2025-08-26
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