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基板処理方法及び基板処理装置[ja]
被引:0
申请号
:
JP20240214570
申请日
:
2024-12-09
公开(公告)号
:
JP2025181611A
公开(公告)日
:
2025-12-11
发明(设计)人
:
申请人
:
申请人地址
:
IPC主分类号
:
H01L21/302
IPC分类号
:
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
共 50 条
[1]
基板処理装置および基板処理方法[ja]
[P].
HONDA TAKUMI
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
TOKYO ELECTRON LTD
TOKYO ELECTRON LTD
HONDA TAKUMI
.
日本专利
:JP2024033157A
,2024-03-13
[2]
処理剤及び基板の処理方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2018074535A1
,2019-09-26
[3]
基板処理方法、及び基板処理システム[ja]
[P].
INOKUCHI ATSUTOMO
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
TOKYO ELECTRON LTD
TOKYO ELECTRON LTD
INOKUCHI ATSUTOMO
;
MAEDA SEIJI
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
TOKYO ELECTRON LTD
TOKYO ELECTRON LTD
MAEDA SEIJI
.
日本专利
:JP2024001648A
,2024-01-10
[4]
基板処理方法[ja]
[P].
LINDA HO
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
SCREEN HOLDINGS CO LTD
SCREEN HOLDINGS CO LTD
LINDA HO
;
INABA MAKI
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
SCREEN HOLDINGS CO LTD
SCREEN HOLDINGS CO LTD
INABA MAKI
.
日本专利
:JP2024005033A
,2024-01-17
[5]
基板を処理する方法、及び基板を処理する装置[ja]
[P].
WADA MAKOTO
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
TOKYO ELECTRON LTD
TOKYO ELECTRON LTD
WADA MAKOTO
;
YAMAZAKI KAZUYOSHI
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
TOKYO ELECTRON LTD
TOKYO ELECTRON LTD
YAMAZAKI KAZUYOSHI
;
MOROZUMI YUICHIRO
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
TOKYO ELECTRON LTD
TOKYO ELECTRON LTD
MOROZUMI YUICHIRO
.
日本专利
:JP2025058659A
,2025-04-09
[6]
基板処理液[ja]
[P].
日本专利
:JP2025170195A
,2025-11-18
[7]
基板の処理装置[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2005106936A1
,2008-07-31
[8]
処理液、及び、処理方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2019151141A1
,2021-01-28
[9]
処理材及び処理方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2012029433A1
,2013-10-28
[10]
排水処理方法及び排水処理装置[ja]
[P].
YAMAMOTO TAICHI
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
ORGANO KK
ORGANO KK
YAMAMOTO TAICHI
;
YUI YOSHINORI
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
ORGANO KK
ORGANO KK
YUI YOSHINORI
;
HASEBE YOSHIAKI
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
ORGANO KK
ORGANO KK
HASEBE YOSHIAKI
.
日本专利
:JP2023182381A
,2023-12-26
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