A LOW-TEMPERATURE PROCESS FOR THE REACTIVE FORMATION OF SI3N4 LAYERS ON INSB

被引：16

作者：

OLCAYTUG, F

RIEDLING, K

FALLMANN, W

机构：

来源：

关键词：

D O I：

10.1016/0040-6090(80)90465-4

中图分类号：

T [工业技术];

学科分类号：

08 ;

摘要：

引用

页码：321 / 324

页数：4

共 6 条

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