THERMAL EXPANSION COEFFICIENT OF A PYROLITICALLY DEPOSITED SILICON NITRIDE FILM

被引：37

作者：

TOKUYAMA, T

FUJII, Y

SUGITA, Y

KISHINO, S

机构：

来源：

JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS | 1967年 / 6卷 / 10期

关键词：

D O I：

10.1143/JJAP.6.1252

中图分类号：

O59 [应用物理学];

学科分类号：

摘要：

引用

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页码：1252 / &

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共 4 条

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