PRECIPITATION OF COPPER IN SILICON

被引:73
作者
DAS, G [1 ]
机构
[1] IBM CORP, SYST PROD DIV, E FISHKILL FACIL, Hopewell Jct, NY 12533 USA
关键词
D O I
10.1063/1.1661982
中图分类号
O59 [应用物理学];
学科分类号
摘要
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页码:4459 / 4467
页数:9
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