ION EFFECTS DURING E-BEAM DEPOSITION OF METALS

被引：3

作者：

SCHUERME.FL

CHASE, WR

KING, EL

机构：

来源：

JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY | 1972年 / 9卷 / 01期

关键词：

D O I：

10.1116/1.1316597

中图分类号：

O59 [应用物理学];

学科分类号：

摘要：

引用

页码：330 / &

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