STRUCTURE AND PROPERTY RELATIONSHIPS OF NI-20CR PRODUCED BY HIGH-RATE PHYSICAL VAPOR-DEPOSITION

被引：3

作者：

AGARWAL, NK ^{[1
]}

KANE, NF ^{[1
]}

BUNSHAH, RF ^{[1
]}

机构：

[1] UNIV CALIF,MAT DEPT,LOS ANGELES,CA 90024

来源：

JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY | 1974年 / 11卷 / 01期

关键词：

D O I：

10.1116/1.1318626

中图分类号：

O59 [应用物理学];

学科分类号：

摘要：

引用

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