PHOTOEMISSION STUDIES OF LICL, NACL, AND KCL

被引:54
作者
PONG, W [1 ]
SMITH, JA [1 ]
机构
[1] UNIV HAWAII,DEPT PHYS & ASTRON,HONOLULU,HI 96822
来源
PHYSICAL REVIEW B | 1974年 / 9卷 / 06期
关键词
D O I
10.1103/PhysRevB.9.2674
中图分类号
T [工业技术];
学科分类号
08 ;
摘要
引用
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页码:2674 / 2678
页数:5
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