MOCVD GROWTH AND PL-CHARACTERISTICS OF ND DOPED GAAS

被引:14
作者
NAKAGOME, H
TAKAHEI, K
机构
来源
JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 2-LETTERS & EXPRESS LETTERS | 1989年 / 28卷 / 11期
关键词
D O I
10.1143/JJAP.28.2098
中图分类号
O59 [应用物理学];
学科分类号
摘要
引用
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页码:L2098 / L2100
页数:3
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