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HALL-MOBILITY IN DIELECTRICALLY ISOLATED SINGLE-CRYSTAL SILICON FILMS DEFINED BY ELECTROCHEMICAL ETCHING
被引:6
作者
:
KAMINS, TI
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
FAIRCHILD CAMERA & INSTR CORP, RES & DEV LAB, PALO ALTO, CA 94304 USA
FAIRCHILD CAMERA & INSTR CORP, RES & DEV LAB, PALO ALTO, CA 94304 USA
KAMINS, TI
[
1
]
机构
:
[1]
FAIRCHILD CAMERA & INSTR CORP, RES & DEV LAB, PALO ALTO, CA 94304 USA
来源
:
SOLID-STATE ELECTRONICS
|
1974年
/ 17卷
/ 07期
关键词
:
D O I
:
10.1016/0038-1101(74)90089-6
中图分类号
:
TM [电工技术];
TN [电子技术、通信技术];
学科分类号
:
0808 ;
0809 ;
摘要
:
引用
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页码:667 / 674
页数:8
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