FIELD-EFFECT TRANSISTORS USING BORON-DOPED DIAMOND EPITAXIAL-FILMS

被引:100
作者
SHIOMI, H
NISHIBAYASHI, Y
FUJIMORI, N
机构
来源
JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 2-LETTERS & EXPRESS LETTERS | 1989年 / 28卷 / 12期
关键词
D O I
10.1143/JJAP.28.L2153
中图分类号
O59 [应用物理学];
学科分类号
摘要
引用
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页码:L2153 / L2154
页数:2
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