ION-BEAM INDUCED CRYSTALLIZATION AND AMORPHIZATION AT A CRYSTALLINE AMORPHOUS INTERFACE IN [100] SILICON

被引：35

作者：

LEIBERICH, A ^{[1
]}

MAHER, DM ^{[1
]}

KNOELL, RV ^{[1
]}

BROWN, WL ^{[1
]}

机构：

[1] AT&T BELL LABS, MURRAY HILL, NJ 07974 USA

来源：

NUCLEAR INSTRUMENTS & METHODS IN PHYSICS RESEARCH SECTION B-BEAM INTERACTIONS WITH MATERIALS AND ATOMS | 1987年 / 19-20卷

关键词：

D O I：

10.1016/S0168-583X(87)80090-3

中图分类号：

TH7 [仪器、仪表];

学科分类号：

0804 ; 080401 ; 081102 ;

摘要：

引用

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页码：457 / 461

页数：5

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共 5 条

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