STRUCTURAL AND ELECTRICAL-PROPERTIES OF STABLE NI/CR THIN-FILMS

被引：28

作者：

AU, CL

JACKSON, MA

ANDERSON, WA

机构：

[1] State Univ of New York at Buffalo,, Amherst, NY, USA, State Univ of New York at Buffalo, Amherst, NY, USA

来源：

关键词：

D O I：

10.1007/BF02653370

中图分类号：

TM [电工技术]; TN [电子技术、通信技术];

学科分类号：

0808 ; 0809 ;

摘要：

引用

页码：301 / 306

页数：6

共 5 条

BIRJEGA, MI ;

POPESCUPOGRION, N ;

SARBU, C ;

TEODORESCU, IA .

[2]

Ramachandran K., 1981, International Journal for Hybrid Microelectronics, V4, P269

[3]

ROLKE J, 1981, ELECTROCOMPONENT SCI, V57, P51

[4] ELECTRON-MICROSCOPIC AND AES STUDIES ON THIN-LAYERS OF NICR [J].

TOTH, L ;

BARNA, A ;

SAFRAN, G ;

MENYHARD, M ;

KORANYI, T .

[5]

WEISSMANN S, 1963, LIST ALLOY PHASE DES