SURFACE PROCESSES IN LOW-PRESSURE CHEMICAL VAPOR-DEPOSITION

被引:27
作者
HOTTIER, F
CADORET, R
机构
关键词
D O I
10.1016/0022-0248(81)90194-9
中图分类号
O7 [晶体学];
学科分类号
0702 ; 070205 ; 0703 ; 080501 ;
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页数:8
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