TEMPORARY TRAPS IN SILICON AND GERMANIUM

被引:86
作者
HAYNES, JR
HORNBECK, JA
机构
来源
PHYSICAL REVIEW | 1953年 / 90卷 / 01期
关键词
D O I
10.1103/PhysRev.90.152.2
中图分类号
O4 [物理学];
学科分类号
0702 ;
摘要
引用
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页码:152 / 153
页数:2
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共 1 条
[1]   THE DRIFT MOBILITY OF ELECTRONS IN SILICON [J].
HAYNES, JR ;
WESTPHAL, WC .
PHYSICAL REVIEW, 1952, 85 (04) :680-680