AZ1350J AS A DEEP-UV MASK MATERIAL

被引：22

作者：

LIN, BJ

机构：

来源：

关键词：

D O I：

10.1149/1.2129618

中图分类号：

O646 [电化学、电解、磁化学];

学科分类号：

081704 ;

摘要：

引用

页码：202 / 205

页数：4

共 6 条

[1] OPTICAL MANIPULATION OF RESIST PROFILE IN CONFORMABLE PRINTING [J].

LIN, BJ .

JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY, 1978, 15 (03) :1012-1015

[2] DEEP UV LITHOGRAPHY [J].

LIN, BJ .

JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY, 1975, 12 (06) :1317-1320

[3]

LIN BJ, 1979, SPIE P, P174

[4] PROPER EQUALITY CONSTRAINTS AND MAXIMIZATION OF INDEX VECTORS [J].

LIN, JG .

[5]

MARKLE D, 1974, SOLID STATE TECH JUN, P50

SINCLAIR, WR ;

SULLIVAN, MV ;

FASTNACHT, RA .