MODIFICATION OF A SPUTTER ION-SOURCE FOR VANDEGRAAFF OPERATION

被引：3

作者：

HIRVONEN, JK ^{[1
]}

机构：

[1] USN,RES LAB,WASHINGTON,DC 20375

来源：

NUCLEAR INSTRUMENTS & METHODS | 1974年 / 116卷 / 01期

关键词：

D O I：

10.1016/0029-554X(74)90570-9

中图分类号：

TH7 [仪器、仪表];

学科分类号：

0804 ; 080401 ; 081102 ;

摘要：

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共 1 条

[1] A SPUTTERING ION SOURCE [J].

HILL, KJ ;

NELSON, RS .

NUCLEAR INSTRUMENTS & METHODS, 1965, 38 (DEC) :15-&