INFLUENCE OF ANNEALING TREATMENTS ON RESIDUAL RESISTIVITY AND FIELD-DEPENDENCE OF ELECTRICAL-RESISTANCE OF NIOBIUM AT 4.2K

被引：1

作者：

KEIL, D ^{[1
]}

MERBOLD, U ^{[1
]}

DIEHL, J ^{[1
]}

机构：

[1] MAX PLANCK INST METALL FORSCH,D-7000 STUTTGART 1,WEST GERMANY

来源：

APPLIED PHYSICS | 1974年 / 3卷 / 03期

关键词：

D O I：

10.1007/BF00884500

中图分类号：

O59 [应用物理学];

学科分类号：

摘要：

引用

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页码：217 / 221

页数：5

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共 11 条

[11]

KEIL D, 1970, Z KERNTECH ISOTOPENT, V12, P480