CERMET RESISTORS BY CONCURRENT RF AND DC SPUTTERING

被引：3

作者：

HOHENSTEIN, J

机构：

来源：

JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY | 1968年 / 5卷 / 02期

关键词：

D O I：

10.1116/1.1492582

中图分类号：

O59 [应用物理学];

学科分类号：

摘要：

引用

页码：65 / +

页数：1

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共 6 条

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