STRESS RELIEF AND HILLOCK FORMATION IN THIN LEAD FILMS

被引：76

作者：

LAHIRI, SK

机构：

来源：

JOURNAL OF APPLIED PHYSICS | 1970年 / 41卷 / 07期

关键词：

D O I：

10.1063/1.1659383

中图分类号：

O59 [应用物理学];

学科分类号：

摘要：

引用

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页码：3172 / &

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共 21 条

[21] Weertman J., 1968, T AM SOC MET, V61, P681