MICROHARDNESS OF SILICA FILMS PREPARED BY RESISTANCE HEATING AND ELECTRON-BEAM EVAPORATION

被引：3

作者：

FURUUCHI, S ^{[1
]}

SAKATA, H ^{[1
]}

AIKAWA, K ^{[1
]}

机构：

[1] ASAHI GLASS CO LTD,RES LAB,1150 HAZAWA KANAGAWA,YOKOHAMA 221,JAPAN

来源：

JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS | 1974年 / 13卷 / 11期

关键词：

D O I：

10.1143/JJAP.13.1905

中图分类号：

O59 [应用物理学];

学科分类号：

摘要：

引用

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页码：1905 / 1906

页数：2

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共 3 条

[1]

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