PHOTOEMISSION OBSERVATIONS OF RESONANT D LEVELS AND D-BAND FORMATION FOR VERY THIN OVERLAYERS OF CU AND PD ON AG

被引:72
作者
EASTMAN, DE [1 ]
GROBMAN, WD [1 ]
机构
[1] IBM CORP,THOMAS J WATSON RES CTR,YORKTOWN HEIGHTS,NY 10598
关键词
D O I
10.1103/PhysRevLett.30.177
中图分类号
O4 [物理学];
学科分类号
0702 ;
摘要
引用
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页码:177 / 180
页数:4
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