VAPOR DEPOSITION AND ETCHING OPEN TUBE KINETICS UNDER DIFFUSION CONTROLLED CONDITIONS

被引：14

作者：

KUZNETSO.FA

BELYI, VI

机构：

来源：

关键词：

D O I：

10.1149/1.2407632

中图分类号：

O646 [电化学、电解、磁化学];

学科分类号：

081704 ;

摘要：

引用

页码：785 / &

共 14 条

[1] AVDUEVSKI VS, 1960, FUNDAMENTALS HEAT TR
[2] BELYI VI, 1967, IZV SIBIRSK OTD AK C, V2, P68
[3] BRETSHNAIDER S, 1968, PROPERTIES GASES LIQ
[4] Eckert E.R., 1959, HEAT MASS TRANSFER, Vsecond
[5] FEDOROV VK, 1965, J ENGRG PHYS, P198
[6] FRANKKAMENETSKI DA, 1968, DIFFUSION HEAT TRANS
[7] A KINETIC THEORY FOR AUTODOPING FOR VAPOR PHASE EPITAXIAL GROWTH OF GERMANIUM
GROSSMAN, JJ
[J]. JOURNAL OF THE ELECTROCHEMICAL SOCIETY, 1963, 110 (10) : 1065 - 1068
[8] KRAVTCHENKO VS, 1968, PHYSICS SEMICONDUCTO, P109
[9] KUTATELADZE SS, 1962, FUNDAMENTALS HEAT TR
[10] LEES L, 1958, 3 COMB PROP AGARO CO