PLASMA ION-DOPING TECHNIQUE WITH 20-KHZ BIASED ELECTRON-CYCLOTRON RESONANCE DISCHARGE

被引：14

作者：

KITAGAWA, M ^{[1
]}

MATSUO, N ^{[1
]}

FUSE, G ^{[1
]}

IWASAKI, H ^{[1
]}

YOSHIDA, A ^{[1
]}

HIRAO, T ^{[1
]}

机构：

[1] MATSUSHITA ELECT IND CO LTD, SEMICOND RES CTR, MORIGUCHI, OSAKA 570, JAPAN

来源：

JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 2-LETTERS & EXPRESS LETTERS | 1988年 / 27卷 / 11期

关键词：

D O I：

10.1143/JJAP.27.L2139

中图分类号：

O59 [应用物理学];

学科分类号：

摘要：

引用

页码：L2139 / L2141

页数：3