SILICIDE FORMATION IN THIN CO-SPUTTERED (TITANIUM + SILICON) FILMS ON POLYCRYSTALLINE SILICON AND SIO2

被引：105

作者：

MURARKA, SP

FRASER, DB

机构：

[1] Bell Laboratories, Murray Hill, NJ 07974, United States

来源：

JOURNAL OF APPLIED PHYSICS | 1980年 / 51卷 / 01期

关键词：

Compilation and indexing terms; Copyright 2025 Elsevier Inc;

D O I：

10.1063/1.327379

中图分类号：

O59 [应用物理学];

学科分类号：

摘要：

6

引用

收藏

页码：350 / 356

页数：7

相关论文

共 6 条

[1] Cotter P.G., 1956, J AM CERAM SOC, V39, P11
[2] Laves F, 1939, Z KRISTALLOGR, V101, P78
[3] MELLIARSMITH CM, UNPUBLISHED
[4] THIN-FILM INTERACTION BETWEEN TITANIUM AND POLYCRYSTALLINE SILICON
MURARKA, SP
FRASER, DB
[J]. JOURNAL OF APPLIED PHYSICS, 1980, 51 (01) : 342 - 349
[5] SCHOEN JM, UNPUBLISHED
[6] [No title captured]