DOPANT DENSITY FROM MAXIMUM-MINIMUM CAPACITANCE RATIO OF IMPLANTED MOS STRUCTURES

被引：4

作者：

BREWS, JR

机构：

来源：

关键词：

D O I：

10.1016/0038-1101(82)90122-8

中图分类号：

TM [电工技术]; TN [电子技术、通信技术];

学科分类号：

0808 ; 0809 ;

摘要：

引用

页码：375 / 379

页数：5

共 6 条

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