PLASMA-ETCHING OF SNO2 FILMS ON SILICON SUBSTRATES

被引：6

作者：

BRAGA, ES ^{[1
]}

MAMMANA, AP ^{[1
]}

MAMMANA, CIZ ^{[1
]}

ANDERSON, RL ^{[1
]}

机构：

[1] UNIV VERMONT,DEPT ELECT ENGN,BURLINGTON,VT 05405

来源：

关键词：

D O I：

10.1016/0040-6090(80)90483-6

中图分类号：

T [工业技术];

学科分类号：

08 ;

摘要：

引用

页码：L5 / L6

页数：2

共 5 条

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