VERY STEEP PROFILE RESIST PATTERN PREPARATION BY REACTIVE ION ETCHING WITH AR+CH4 GAS-MIXTURE

被引:2
作者
WATANABE, I
YOSHIHARA, H
SAITOH, Y
MATSUO, S
机构
关键词
D O I
10.1143/JJAP.20.L804
中图分类号
O59 [应用物理学];
学科分类号
摘要
引用
收藏
页码:L804 / L806
页数:3
相关论文
共 3 条