HIGH-RESOLUTION PATTERN REPLICATION USING SOFT X-RAYS

被引：188

作者：

SPEARS, DL

SMITH, HI

机构：

来源：

关键词：

D O I：

10.1049/el:19720074

中图分类号：

TM [电工技术]; TN [电子技术、通信技术];

学科分类号：

0808 ; 0809 ;

摘要：

引用

页码：102 / &

共 11 条

[1]

[Anonymous], ELECT MICROPROBE

[2]

[Anonymous], XRAY MICROSCOPY

BROERS, AN ;

LEAN, EG ;

HATZAKIS, M .

[4]

COSLETT VE, 1957, XRAY MICROSCOPY MICR, P64

[5]

COSSLETT VE, 1957, XRAY MICROSCOPY MICR

[6]

GREEN M, 1963, XRAY OPTICS XRAY MIC, P185

[7] HIGH-RESOLUTION POSITIVE RESISTS FOR ELECTRON-BEAM EXPOSURE [J].

HALLER, I ;

HATZAKIS, M ;

SRINIVASAN, R .

[8] ELECTRON RESISTS FOR MICROCIRCUIT AND MASK PRODUCTION [J].

HATZAKIS, M .

MEEK, RL .

[10]

MIKITISHIN SI, 1968, FIZ KHIM MEKH MATER, V4, P459