THE USE OF THERMOMAGNETOMETRY TO FOLLOW REACTIONS OF THIN-FILMS

被引：4

作者：

GALLAGHER, PK

GYORGY, EM

SCHREY, F

HELLMAN, F

机构：

来源：

关键词：

D O I：

10.1016/0040-6031(87)80175-2

中图分类号：

O414.1 [热力学];

学科分类号：

摘要：

引用

页码：231 / 239

页数：9

共 3 条

DHEURLE, FM ;

ANFITEATRO, DD ;

DELINE, VR ;

FINSTAD, TG .

[2] OXIDATION OF SPUTTERED NIOBIUM NITRIDE FILMS [J].

GALLAGHER, PK ;

SINCLAIR, WR ;

BACON, DD ;

KAMMLOTT, GW .

[3] THERMOMAGNETOMETRY [J].

WARNE, SS ;

GALLAGHER, PK .