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TEMPERATURE DEPENDENCE OF ABSORPTION LINE WIDTH IN BORON-DOPED SILICON
被引:6
作者
:
COLBOW, K
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COLBOW, K
BICHARD, JW
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BICHARD, JW
GILES, JC
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GILES, JC
机构
:
来源
:
CANADIAN JOURNAL OF PHYSICS
|
1962年
/ 40卷
/ 10期
关键词
:
D O I
:
10.1139/p62-152
中图分类号
:
O4 [物理学];
学科分类号
:
0702 ;
摘要
:
引用
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页码:1436 / &
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VOIGT W, 1912, MUNCH BER, P603
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