TEMPERATURE DEPENDENCE OF ABSORPTION LINE WIDTH IN BORON-DOPED SILICON

被引:6
作者
COLBOW, K
BICHARD, JW
GILES, JC
机构
关键词
D O I
10.1139/p62-152
中图分类号
O4 [物理学];
学科分类号
0702 ;
摘要
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页码:1436 / &
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共 11 条
[11]  
VOIGT W, 1912, MUNCH BER, P603