ARF LASER CVD OF HYDROGENATED AMORPHOUS-SILICON - THE ROLE OF BUFFER GASES

被引:24
作者
DIETRICH, TR
CHIUSSI, S
STAFAST, H
COMES, FJ
机构
来源
APPLIED PHYSICS A-MATERIALS SCIENCE & PROCESSING | 1989年 / 48卷 / 05期
关键词
D O I
10.1007/BF00619710
中图分类号
T [工业技术];
学科分类号
08 ;
摘要
引用
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页码:405 / 414
页数:10
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