MONOLAYER EPITAXY OF III-V COMPOUNDS BY LOW-PRESSURE METALORGANIC CHEMICAL VAPOR-DEPOSITION

被引：13

作者：

RAZEGHI, M

MAUREL, P

OMNES, F

NAGLE, J

机构：

来源：

关键词：

D O I：

10.1063/1.98944

中图分类号：

O59 [应用物理学];

学科分类号：

摘要：

引用

页码：2216 / 2218

页数：3

共 8 条

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