SIMS ANALYSIS OF THIN SURFACE-LAYERS AND LOW KV ION IMPLANTS RELATED TO VLSI AND VHSIC MATERIALS DEVELOPMENT

被引：6

作者：

PHILLIPS, BF

机构：

来源：

JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY | 1982年 / 20卷 / 03期

关键词：

D O I：

10.1116/1.571486

中图分类号：

O59 [应用物理学];

学科分类号：

摘要：

引用

页码：793 / 796

页数：4

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共 4 条

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