LOW-ENERGY DOUBLE ION-BEAM DEPOSITION OF COMPOUND FILMS

被引：2

作者：

YOSHIDA, Y ^{[1
]}

OHNISHI, T ^{[1
]}

HIROFUJI, Y ^{[1
]}

IWASAKI, H ^{[1
]}

IKEDA, T ^{[1
]}

机构：

[1] MATSUSHITA ELECT IND CO LTD,SEMICOND RES CTR,MORIGUCHI,OSAKA 570,JAPAN

来源：

关键词：

D O I：

10.1016/0168-583X(89)90316-9

中图分类号：

TH7 [仪器、仪表];

学科分类号：

0804 ; 080401 ; 081102 ;

摘要：

引用

页码：866 / 869

页数：4

共 4 条

[1] PIG-TYPE COMPACT MICROWAVE METAL-ION SOURCE [J].

YOSHIDA, Y ;

SUZUKI, N ;

ONISHI, T ;

HIROFUJI, Y .

JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 2-LETTERS, 1987, 26 (02) :L100-L102

[2] LOW-ENERGY DOUBLE-ION-BEAM DEPOSITION SYSTEM [J].

YOSHIDA, Y ;

OHNISHI, T ;

SEKIHARA, T ;

HIROFUJI, Y .

JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 1-REGULAR PAPERS SHORT NOTES & REVIEW PAPERS, 1988, 27 (01) :140-143

[3]

YOSHIDA Y, 1987, 11TH P S ION SOURC I, P29

ZALM, PC ;

BECKERS, LJ .